膜厚測試儀
膜厚測試儀,分為手持式和臺式二種,手持式又有磁感應鍍層測厚儀,電渦流鍍層測厚儀,熒光X射線儀鍍層測厚儀。
手持式的磁感應原理時,利用從測頭經過非鐵磁覆層而流入鐵磁基體的磁通的大小,來測定覆層厚度。
也可以測定與之對應的磁阻的大小,來表示其覆層厚度。
臺式的熒光X射線膜厚測試儀,是通過一次X射線穿透金屬元素樣品時·產生低能量的光子,俗稱為二次熒光,,在通過計算二次熒光的能量來計算厚度值。
采用磁感應原理時,利用從測頭經過非鐵磁覆層而流入鐵磁基體的磁通的大小,來測定覆層厚度。也可以測定與之對應的磁阻的大小,來表示其覆層厚度。覆層越厚,則磁阻越大,磁通越小。
利用磁感應原理的測厚儀,原則上可以有導磁基體上的非導磁覆層厚度。一般要求基材導磁率在500以上。如果覆層材料也有磁性,則要求與基材的導磁率之差足夠大(如鋼上鍍鎳)。當軟芯上繞著線圈的測頭放在被測樣本上時,儀器自動輸出測試電流或測試信號。
早期的產品采用指針式表頭,測量感應電動勢的大小,儀器將該信號放大后來指示覆層厚度。電路設計引入穩頻、鎖相、溫度補償等地新技術,利用磁阻來調制測量信號。還采用集成電路,引入微機,使測量精度和重現性有了大幅度的提高(幾乎達一個數量級)。
現代的磁感應測厚儀,分辨率達到0.1um,允許誤差達1%,量程達10mm。
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